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新聞詳情
2022/5/14
真空狀態(tài)定義與真空系統(tǒng)檢漏技術(shù)真空狀態(tài)定義
在真空科學(xué)中，真空的含義是指在給定的空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài)。人們通常把這種稀薄的氣體狀態(tài)稱(chēng)為真空狀況。這種特定的真空狀態(tài)與人類(lèi)賴(lài)以生存的大氣在狀態(tài)相比較，主要有如下幾個(gè)基本特點(diǎn)：
（1）真空狀態(tài)下的氣體壓力低于一個(gè)大氣壓，因此，處于地球表面上的各種真空容器中，必將受到大氣壓力的作用，其壓強(qiáng)差的大小由容器內(nèi)外的壓差值而定。由于作用在地球表面上的一個(gè)大氣壓約為101325N/m2，因此當(dāng)容器內(nèi)壓力很小時(shí)，則容器所承受的大氣壓力可達(dá)到一個(gè)大氣壓。
（2）真空狀態(tài)下由于氣體稀薄，單位體積內(nèi)的氣體分子數(shù)，即氣體的分子密度小于大氣壓力的氣體分子密度。因此，分子之間、分子與其他質(zhì)點(diǎn)（如電子、離子等）之間以及分子與各種表面（如器壁）之間相互碰撞次數(shù)相對(duì)減少，使氣體的分子自由程變大。
工業(yè)真空概述：
工業(yè)上的真空指的是氣壓比一標(biāo)準(zhǔn)大氣壓小的氣體空間，是指稀薄的氣體狀態(tài)，又可分為高真空、中真空和低真空，地球以及星球中間的廣大太空就是真空。普通是用特制的抽氣機(jī)得到真空的。它的氣體稀薄程度用真空計(jì)測(cè)定，現(xiàn)在已能用分子抽氣機(jī)和擴(kuò)散抽氣機(jī)得到0.0000000001大氣壓的高真空。真空在科學(xué)技術(shù)，電真空儀器，電子管和其他電子儀器方面，都有很大用途。
真空閥檢漏技術(shù)：
一個(gè)理想的真空系統(tǒng)或者真空容器，應(yīng)當(dāng)是不存在任何漏孔，更不會(huì)產(chǎn)生任何漏氣現(xiàn)象的。但是，就任何真空系統(tǒng)或真空閥來(lái)說(shuō)，不漏的現(xiàn)象是不可能的。特殊是在壓力低的情況下，隨著漏氣現(xiàn)象的影響不斷加劇，真空度達(dá)不到預(yù)定的工藝要求，是一個(gè)相稱(chēng)普遍的問(wèn)題。因此，在檢測(cè)真空閥或真空系統(tǒng)存在的漏氣部位、確定漏孔的大小、阻塞漏孔從而消除漏氣現(xiàn)象，就成為真空技術(shù)工作者的一項(xiàng)重要工作。
所謂漏氣或稱(chēng)實(shí)漏，它是指氣體通過(guò)真空系統(tǒng)上的漏孔或間隙，從高壓側(cè)流向低壓側(cè)的一種現(xiàn)象。真空閥檢漏技術(shù)中的一些常用基本概念有九點(diǎn)。
其一稱(chēng)為虛漏，它是相對(duì)于實(shí)漏而言的一種物理現(xiàn)象。這種現(xiàn)象大都是由于材料的放氣、解吸、凝解氣體的再蒸發(fā)或真空系統(tǒng)內(nèi)存在死空間中氣體的流出等原因而引起真空系統(tǒng)或真空閥中壓力升高檢漏的一種現(xiàn)象。真空閥檢漏的時(shí)候需要排除虛漏的影響。氣密性表征著真空系統(tǒng)或容器的壁對(duì)空氣不渴沉頭程度的一種可能。其三是漏孔，所謂的真空閥漏孔是指真空容器上存在形狀不定、其弱小的孔洞或間隙。大氣通過(guò)這種小孔或間隙進(jìn)入真空系統(tǒng)或容器中。第四點(diǎn)是真空漏率，即為真空閥漏氣速率，它代表在指定的單位時(shí)間內(nèi)通過(guò)漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器內(nèi)的氣體量。其五是采用某種檢漏方法或真空儀器可能檢測(cè)出來(lái)的小漏率。還有檢漏敏捷度，或者可稱(chēng)之為有效敏捷度。對(duì)于它的相應(yīng)時(shí)間來(lái)說(shuō)，從真空閥檢漏方法開(kāi)始實(shí)施到指示方法或真空儀器指示值上升到其大值的時(shí)所需要的時(shí)間。而消除時(shí)間是指從檢漏方法停止到指示方法或儀器指示值下降到停止值的所需時(shí)間。后就是由灰塵或液體所造成的漏孔阻塞，這些阻塞常常是指由于檢漏作業(yè)操作不當(dāng)而導(dǎo)致發(fā)生的一種暫時(shí)現(xiàn)象，真空閥檢漏時(shí)好像不漏氣，但一經(jīng)排氣又會(huì)浮現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象，我們把它稱(chēng)為漏孔的阻塞現(xiàn)象。
在真空科學(xué)中，真空的含義是指在給定的空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài)。人們通常把這種稀薄的氣體狀態(tài)稱(chēng)為真空狀況。這種特定的真空狀態(tài)與人類(lèi)賴(lài)以生存的大氣在狀態(tài)相比較，主要有如下幾個(gè)基本特點(diǎn)：
（1）真空狀態(tài)下的氣體壓力低于一個(gè)大氣壓，因此，處于地球表面上的各種真空容器中，必將受到大氣壓力的作用，其壓強(qiáng)差的大小由容器內(nèi)外的壓差值而定。由于作用在地球表面上的一個(gè)大氣壓約為101325N/m2，因此當(dāng)容器內(nèi)壓力很小時(shí)，則容器所承受的大氣壓力可達(dá)到一個(gè)大氣壓。
（2）真空狀態(tài)下由于氣體稀薄，單位體積內(nèi)的氣體分子數(shù)，即氣體的分子密度小于大氣壓力的氣體分子密度。因此，分子之間、分子與其他質(zhì)點(diǎn)（如電子、離子等）之間以及分子與各種表面（如器壁）之間相互碰撞次數(shù)相對(duì)減少，使氣體的分子自由程變大。
工業(yè)真空概述：
工業(yè)上的真空指的是氣壓比一標(biāo)準(zhǔn)大氣壓小的氣體空間，是指稀薄的氣體狀態(tài)，又可分為高真空、中真空和低真空，地球以及星球中間的廣大太空就是真空。普通是用特制的抽氣機(jī)得到真空的。它的氣體稀薄程度用真空計(jì)測(cè)定，現(xiàn)在已能用分子抽氣機(jī)和擴(kuò)散抽氣機(jī)得到0.0000000001大氣壓的高真空。真空在科學(xué)技術(shù)，電真空儀器，電子管和其他電子儀器方面，都有很大用途。
真空閥檢漏技術(shù)：
一個(gè)理想的真空系統(tǒng)或者真空容器，應(yīng)當(dāng)是不存在任何漏孔，更不會(huì)產(chǎn)生任何漏氣現(xiàn)象的。但是，就任何真空系統(tǒng)或真空閥來(lái)說(shuō)，不漏的現(xiàn)象是不可能的。特殊是在壓力低的情況下，隨著漏氣現(xiàn)象的影響不斷加劇，真空度達(dá)不到預(yù)定的工藝要求，是一個(gè)相稱(chēng)普遍的問(wèn)題。因此，在檢測(cè)真空閥或真空系統(tǒng)存在的漏氣部位、確定漏孔的大小、阻塞漏孔從而消除漏氣現(xiàn)象，就成為真空技術(shù)工作者的一項(xiàng)重要工作。
所謂漏氣或稱(chēng)實(shí)漏，它是指氣體通過(guò)真空系統(tǒng)上的漏孔或間隙，從高壓側(cè)流向低壓側(cè)的一種現(xiàn)象。真空閥檢漏技術(shù)中的一些常用基本概念有九點(diǎn)。
其一稱(chēng)為虛漏，它是相對(duì)于實(shí)漏而言的一種物理現(xiàn)象。這種現(xiàn)象大都是由于材料的放氣、解吸、凝解氣體的再蒸發(fā)或真空系統(tǒng)內(nèi)存在死空間中氣體的流出等原因而引起真空系統(tǒng)或真空閥中壓力升高檢漏的一種現(xiàn)象。真空閥檢漏的時(shí)候需要排除虛漏的影響。氣密性表征著真空系統(tǒng)或容器的壁對(duì)空氣不渴沉頭程度的一種可能。其三是漏孔，所謂的真空閥漏孔是指真空容器上存在形狀不定、其弱小的孔洞或間隙。大氣通過(guò)這種小孔或間隙進(jìn)入真空系統(tǒng)或容器中。第四點(diǎn)是真空漏率，即為真空閥漏氣速率，它代表在指定的單位時(shí)間內(nèi)通過(guò)漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器內(nèi)的氣體量。其五是采用某種檢漏方法或真空儀器可能檢測(cè)出來(lái)的小漏率。還有檢漏敏捷度，或者可稱(chēng)之為有效敏捷度。對(duì)于它的相應(yīng)時(shí)間來(lái)說(shuō)，從真空閥檢漏方法開(kāi)始實(shí)施到指示方法或真空儀器指示值上升到其大值的時(shí)所需要的時(shí)間。而消除時(shí)間是指從檢漏方法停止到指示方法或儀器指示值下降到停止值的所需時(shí)間。后就是由灰塵或液體所造成的漏孔阻塞，這些阻塞常常是指由于檢漏作業(yè)操作不當(dāng)而導(dǎo)致發(fā)生的一種暫時(shí)現(xiàn)象，真空閥檢漏時(shí)好像不漏氣，但一經(jīng)排氣又會(huì)浮現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象，我們把它稱(chēng)為漏孔的阻塞現(xiàn)象。
